日本KITZ隔膜閥低顆粒超高純氣體系統(tǒng)適配
專為低顆粒超高純氣體系統(tǒng)與半導(dǎo)體用 TEOS 等高純液體材料設(shè)計(jì)。閥體為 EP 級(jí)電解拋光 SUS316L 不銹鋼，內(nèi)表面粗糙度 Ra≤0.4μm，確保超高純流體控制。獨(dú)特密封機(jī)制實(shí)現(xiàn)氣密性、耐久性與吹掃性能，適配嚴(yán)苛潔凈工藝。用戶可快速更換密封圈，無(wú)需專業(yè)工具，大幅降低維護(hù)成本與停機(jī)時(shí)間。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、液晶面板、光伏等行業(yè)。

產(chǎn)品型號(hào)：WD4MS-W6C-N-544

更新時(shí)間：2026-02-02

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產(chǎn)品介紹

日本KITZ隔膜閥低顆粒超高純氣體系統(tǒng)適配

專為低顆粒超高純氣體系統(tǒng)與半導(dǎo)體用 TEOS 等高純液體材料設(shè)計(jì)。閥體為 EP 級(jí)電解拋光 SUS316L 不銹鋼，內(nèi)表面粗糙度 Ra≤0.4μm，確保超高純流體控制。獨(dú)特密封機(jī)制實(shí)現(xiàn)氣密性、耐久性與吹掃性能，適配嚴(yán)苛潔凈工藝。用戶可快速更換密封圈，無(wú)需專業(yè)工具，大幅降低維護(hù)成本與停機(jī)時(shí)間。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、液晶面板、光伏等行業(yè)，是高潔凈度流體控制的理想選擇。

日本KITZ隔膜閥低顆粒超高純氣體系統(tǒng)適配

是專為低顆粒超高純氣體系統(tǒng)研發(fā)的手動(dòng)型流體控制閥門，隸屬 WD 系列容器材料專用款，依托無(wú)彈簧低顆粒設(shè)計(jì)、EP 級(jí)高純材質(zhì)工藝，適配半導(dǎo)體、液晶面板等精密制造領(lǐng)域的超高純介質(zhì)傳輸需求，兼具氣密性、耐用性與維護(hù)便捷性，是高潔凈度流體控制系統(tǒng)的核心適配部件。

該產(chǎn)品的核心優(yōu)勢(shì)在于從結(jié)構(gòu)源頭實(shí)現(xiàn)低顆?？刂疲捎猛黄菩詿o(wú)彈簧隔膜結(jié)構(gòu)，避免傳統(tǒng)彈簧結(jié)構(gòu)因摩擦、金屬疲勞產(chǎn)生的顆粒脫落問題，符合 SEMI F57 低顆粒行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，可有效降低工藝介質(zhì)的顆粒污染風(fēng)險(xiǎn)。閥體通體選用 EP 級(jí)電解拋光 SUS316L 不銹鋼，內(nèi)表面粗糙度達(dá) Ra≤0.4μm，大幅減少流體滯留與顆粒吸附區(qū)域，且接觸介質(zhì)部件無(wú)鎳元素析出，從材質(zhì)層面保障超高純介質(zhì)的傳輸純度，同時(shí)具備優(yōu)異的耐腐蝕性，適配各類強(qiáng)腐蝕性高純工藝氣體。

在流體控制性能上，該閥門采用閥座集成隔膜的一體化設(shè)計(jì)，流道無(wú)明顯臺(tái)階與尖角，內(nèi)部容積極小化，大幅提升吹掃效率，配合高精密密封機(jī)制，實(shí)現(xiàn)氦氣泄漏率≤1×10??atm?cm3/s He 的高氣密性，確保超高純氣體、無(wú)泄漏傳輸。其連接規(guī)格為 1/4" VCR W6C，適配超高純系統(tǒng)管道的無(wú)泄漏快速連接，工作壓力 0.6MPa，工作溫度范圍 - 10℃~80℃，兼容半導(dǎo)體工藝的常規(guī)工況，隔膜可選用 PCTFE/PFA/PI 等多材質(zhì)，靈活適配 SiH?、NH?等超高純氣體及 TEOS 等半導(dǎo)體前驅(qū)體高純液體，解決傳統(tǒng)閥門對(duì)高純液體的殘留、難清潔痛點(diǎn)。

產(chǎn)品在運(yùn)維層面做了針對(duì)性優(yōu)化，其 ASSY 密封圈組件支持用戶自主更換，無(wú)需專業(yè)工具與復(fù)雜技術(shù)培訓(xùn)，且更換后閥門的低顆粒性能、氣密性、吹掃特性均保持不變，相比傳統(tǒng)閥門維護(hù)周期縮短 70%，維護(hù)成本降低 60%，大幅減少設(shè)備停機(jī)時(shí)間。同時(shí)閥門執(zhí)行機(jī)構(gòu)采用緊湊化設(shè)計(jì)，節(jié)省安裝空間，VCR 連接方式支持快速拆裝，可與 KITZ SCT 全系列超高純閥門兼容，便于構(gòu)建一體化的超高純流體控制回路，適配系統(tǒng)集成與擴(kuò)展需求。

上一個(gè)：WD4MS-VFC-N-589晶圓制造日本KITZ隔膜閥防顆粒高潔凈